ArF光刻膠國(guó)產(chǎn)化再進(jìn)一步。
5月31日晚，南大光電(300346.SZ)發(fā)布公告稱，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品再次通過(guò)客戶認(rèn)證。
ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體自主研發(fā)及國(guó)產(chǎn)化意義重大。
南大光電由南京大學(xué)孫祥禎教授創(chuàng)辦，近年來(lái)，公司加快產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型，奔跑在助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國(guó)產(chǎn)化突破的路上。
“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目，于2017年開始研發(fā)，至今已有4年多。
2020年12月17日晚，南大光電曾公告稱，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。認(rèn)證評(píng)估報(bào)告顯示，本次認(rèn)證選擇客戶50nm閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品測(cè)試各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)。
當(dāng)時(shí)，南大光電表示，本次產(chǎn)品認(rèn)證的通過(guò)，標(biāo)志著“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠。
這一次，南大光電的光刻膠產(chǎn)品認(rèn)證系選擇客戶55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片產(chǎn)品的工藝進(jìn)行驗(yàn)證，測(cè)試良率結(jié)果符合要求，表明其具備55nm平臺(tái)后段金屬布線層的工藝要求。
相較去年12月的產(chǎn)品通過(guò)認(rèn)證，本次選擇的是55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片。
南大光電稱，公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品去年12月在一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺(tái)上通過(guò)認(rèn)證后，這一次是在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得認(rèn)證突破。
ArF光刻膠材料是集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝。廣泛應(yīng)用于高端芯片制造(如邏輯芯片、存儲(chǔ)芯片、AI芯片、5G芯片和云計(jì)算芯片等)。
業(yè)內(nèi)普遍認(rèn)為，ArF光刻膠的市場(chǎng)前景好于預(yù)期。隨著國(guó)內(nèi)IC行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新和國(guó)產(chǎn)化步伐的加快，以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用，將大大拉動(dòng)光刻膠的用量。
光電稱，ArF光刻膠產(chǎn)品與本次認(rèn)證通過(guò)的客戶之間的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商中，ArF光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險(xiǎn)，決定著ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益。
今年5月11日，南大光電董事長(zhǎng)馮劍松在2020年度業(yè)績(jī)說(shuō)明會(huì)上介紹，自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品拿到了國(guó)產(chǎn)光刻膠首個(gè)訂單，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)小批量銷售。公司ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目已完成25噸光刻膠生產(chǎn)線建設(shè)。
6月1日早盤，受利好消息刺激，南大光電股價(jià)大漲12.6%，收?qǐng)?bào)35.47元/股，市值增長(zhǎng)16.16億元。(記者 沈右榮)
